(1)真空鍍鈦加工時鈦設備 金屬、合金或絕緣物均可做成薄膜材料。
(2)再恰當?shù)脑O定條件下可將多元雜亂的靶材真空鍍鈦加工中制造出同一構成的薄膜。
(3)運用放電空氣中參加氧或其它的活性氣體,真空鍍鈦加工能夠制造靶材物質與氣體分子的混合物或化合物。
(4)靶材輸入電流及濺射時間能夠控制,真空鍍鈦加工簡略得到高精度的膜厚。
(5)較其它制程利于出產大面積的均一薄膜。這層膜面積大厚度也是很均一的
(6)濺射粒子幾不受重力影響,真空鍍鈦加工時靶材與基板方位可安閑安排。
(7)真空鍍鈦加工后基板與膜的附著強度是一般蒸鍍膜的10倍以上,且因為濺射粒子帶有高能量,在成膜面會持續(xù)表面渙散而得到硬且細密的薄膜,一起此高能量使基板只需較低的溫度即可得到結晶膜。
(8)真空鍍鈦加工在薄膜構成前期成核密度高,可出產10nm以下的極薄連續(xù)膜。
(9)靶材的壽命長,真空鍍鈦加工可長時間自動化連續(xù)出產。
(10)靶材可制造成各種形狀,協(xié)作機臺的特別規(guī)劃做非常好的控制及最有功率 。
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